原子层沉积设备、方法和阀
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摘要
一种装置、方法和阀，该阀包括反应化学物质入口、反应室出口和封闭器，所述封闭器具有打开和关闭配置以分别打开和关闭从反应化学物质入口到反应室出口的路线，该阀还包括在封闭器下游侧的附加的清洁化学物质入口，以吹扫封闭器。
基本信息
专利标题 ：
原子层沉积设备、方法和阀
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110582591A
申请号 ：
CN201780090163.5
公开（公告）日 ：
2019-12-17
申请日 ：
2017-05-02
授权号 ：
CN110582591B
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
M·普达斯
申请人 ：
皮考逊公司
申请人地址 ：
芬兰埃斯波
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
董典红
优先权 ：
CN201780090163.5
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 C23C16/54
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IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2022-05-10 ：
授权
2020-04-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/455
申请日 : 20170502
申请日 : 20170502
2019-12-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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