沉积源和包括沉积源的沉积设备
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种具有稳定沉积速度和高重现性的沉积源，以及一种包括沉积源的沉积设备，其中该沉积源包括：具有线形开孔部分的加热室；和包括多个孔并与加热室线形开孔部分相连的盖。盖上形成的孔之间的距离沿加热室的线形开孔部分的长边方向变化。盖上形成的孔的数量沿加热室的线形开孔部分的长边方向也可发生变化。
基本信息
专利标题 ：
沉积源和包括沉积源的沉积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1818127A
申请号 ：
CN200510121705.X
公开（公告）日 ：
2006-08-16
申请日 ：
2005-12-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
金度根安宰弘宋官燮许明洙郑锡宪
申请人 ：
三星SDI株式会社
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
崔幼平
优先权 ：
CN200510121705.X
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/56
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2010-02-24 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2009-03-04 ：
专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移)
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 韩国京畿道
变更后权利人 : 韩国京畿道水原市
登记生效日 : 20090206
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 三星SDI株式会社
变更后权利人 : 三星移动显示器株式会社
变更前权利人 : 韩国京畿道
变更后权利人 : 韩国京畿道水原市
登记生效日 : 20090206
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 三星SDI株式会社
变更后权利人 : 三星移动显示器株式会社
2008-01-30 ：
实质审查的生效
2006-08-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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