一种支撑加热坩埚的装置以及包括它的沉积设备
授权
摘要
本发明公开了一种支撑加热坩埚的装置，包括支撑台和防污盘，支撑台的上表面形成有许多孔洞，防污盘分布于支撑台的各个孔洞入口处，并且具有相对于孔洞的开放部分以及沿孔洞内壁延伸的遮蔽部分。
基本信息
专利标题 ：
一种支撑加热坩埚的装置以及包括它的沉积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN103510052A
申请号 ：
CN201310491720.8
公开（公告）日 ：
2014-01-15
申请日 ：
2006-01-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
池昶恂
申请人 ：
三星显示有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京德琦知识产权代理有限公司
代理人 ：
陈舒维
优先权 ：
CN201310491720.8
主分类号 ：
C23C14/26
IPC分类号 ：
C23C14/26
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/26
电阻加热蒸发源法或感应加热蒸发源法
法律状态
2015-10-14 ：
授权
2014-02-19 ：
实质审查的生效
号牌文件类型代码 : 1604
号牌文件序号 : 101571926366
IPC(主分类) : C23C 14/26
专利申请号 : 2013104917208
申请日 : 20060121
号牌文件序号 : 101571926366
IPC(主分类) : C23C 14/26
专利申请号 : 2013104917208
申请日 : 20060121
2014-01-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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