面板沉积镀膜设备
授权
摘要
本实用新型公开一种面板沉积镀膜设备，涉及面板加工技术领域，该面板沉积镀膜设备包括真空壳体和依次设在真空壳体内的装载件、屏蔽罩、靶板组件及磁性件，装载件靠近靶板组件的一侧用于装载面板，屏蔽罩为框架结构。真空壳体的内侧壁上设有可拆卸的防护板。该面板沉积镀膜设备能够适应多种尺寸规格的面板，并且能够避免溅射粒子沉积到真空壳体的内侧壁上的现象。
基本信息
专利标题 ：
面板沉积镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122726246.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-08
授权号 ：
CN216192677U
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
石林
申请人 ：
乐金显示光电科技（中国）有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市高新技术产业开发区科学城开泰大道59号
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
郭玉兵
优先权 ：
CN202122726246.5
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2022-04-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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