原子层沉积镀膜设备及其电感耦合线圈
授权
摘要
本实用新型公开了一种原子层沉积镀膜设备及其电感耦合线圈，该电感耦合线圈包括并联设置的第一柱状螺旋线圈与第二柱状螺旋线圈；所述第一柱状螺旋线圈与所述第二柱状螺旋线圈在空间呈上下排布设置；所述第一柱状螺旋线圈的输入端和所述第二柱状螺旋线圈的输入端均连接在同一定位板上，所述定位板设有功率馈入部；所述第一柱状螺旋线圈的输出端和所述第二柱状螺旋线圈的输出端均连接在同一固定板上，以形成接地部。该电感耦合线圈可以提高耦合效率，降低启辉初始功率，可扩宽射频启辉窗口，扩宽等离子体源的产生面积。
基本信息
专利标题 ：
原子层沉积镀膜设备及其电感耦合线圈
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122996410.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-30
授权号 ：
CN216562718U
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
陈文翰李哲峰
申请人 ：
深圳市原速科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区新安街道兴东社区群辉路3号优创空间2号楼429
代理机构 ：
深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙)
代理人 ：
沈红曼
优先权 ：
CN202122996410.4
主分类号 ：
H01F27/28
IPC分类号 ：
H01F27/28 C23C16/455 C23C16/50
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01F
磁体；电感；变压器；磁性材料的选择
H01F27/00
变压器或电感器的一般零部件
H01F27/28
线圈；绕组；导电连接
法律状态
2022-05-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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