倾斜沉积镀膜装置
避免重复授权放弃专利权
摘要

一种用于电子枪蒸发镀膜机内镀制雕塑薄膜的倾斜沉积镀膜装置,包括安装架、球冠形夹具和楔形块,还有套筒、步进电机、步进电机驱动器和计算机,该安装架将该装置安装在镀膜机的真空室内;该楔形块根据倾斜角度进行设计;该可拆卸套筒用于连接步进电机和球冠形夹具;该步进电机用于控制球冠形夹具的匀速转动;步进电机通过电缆与驱动器相连,驱动器通过电缆与计算机相连,计算机通过已有程序控制夹具的转速。本实用新型主动引入基片倾角,一次可以镀制多片不同倾角的雕塑薄膜,具有结构简单,紧凑,容易操作的特点。

基本信息
专利标题 :
倾斜沉积镀膜装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820054561.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-01-09
授权号 :
CN201141921Y
授权日 :
2008-10-29
发明人 :
肖秀娣董国平齐红基贺洪波邵建达
申请人 :
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 :
201800上海市800-211邮政信箱
代理机构 :
上海新天专利代理有限公司
代理人 :
张泽纯
优先权 :
CN200820054561.X
主分类号 :
G02B1/10
IPC分类号 :
G02B1/10  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件;用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
法律状态
2011-01-12 :
避免重复授权放弃专利权
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101061290007
IPC(主分类) : G02B 1/10
专利号 : ZL200820054561X
申请日 : 20080109
授权公告日 : 20081029
放弃生效日 : 20080109
2008-10-29 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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