沉积镀膜设备
授权
摘要
本实用新型提供一种沉积镀膜设备，其包括：真空室、设置于真空室顶部的多个沉积气体进口、适于圆形基片固定的旋转夹持机构；旋转夹持机构包括：基板、通过转轴安装于基板上的主动轮以及多个从动轮、安装于主动轮和多个从动轮围成的区域的中心位置处的旋转支撑轴，主动轮及多个从动轮按照一圆形轨迹进行排布，圆形轨迹的直径与圆形基片的直径相适应，主动轮及多个从动轮位于同一水平面内，旋转支撑轴的上端设置有吸盘，旋转支撑轴连同其上端的吸盘的高度之和小于主动轮及多个从动轮所在的水平面高度。本实用新型通过真空室中的旋转夹持机构能够实现基片的固定，并且能够带动基片进行轴向的旋转，有利于在基片上形成厚度均匀的薄膜。
基本信息
专利标题 ：
沉积镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920490674.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-12
授权号 ：
CN209722295U
授权日 ：
2019-12-03
发明人 ：
周少波
申请人 ：
周少波
申请人地址 ：
上海市长宁区延安西路
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920490674.2
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2019-12-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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