高效原子沉积层镀膜设备自动上下料系统
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要
本实用新型涉及一种高效原子沉积层镀膜设备自动上下料系统,包括机架和腔室,在所述机架一侧安装有第一垂直模组,在位于腔室入口处设置有第二垂直模组;在所述第二垂直模组两侧的机架上分别设置有第一输送机构和第二输送机构,在所述第一输送机构的输送方向两侧分别设置有起到衔接作用的第一接料机构和第二接料机构;在所述第二输送机构靠近第二垂直模组处的机架上设置有第三接料机构;在所述第二输送机构上设置有冷却系统,经过镀膜以后的电池片进入冷却系统冷却。本实用新型可以有效的将电池片自动传输至镀膜腔室内,镀膜后再自动的将电池片传输至冷却工位,冷却后再自动下料,解决的主要是针对原子沉积层镀膜设备的一次性上下料的问题。
基本信息
专利标题 :
高效原子沉积层镀膜设备自动上下料系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020589078.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-18
授权号 :
CN212335295U
授权日 :
2021-01-12
发明人 :
孙青张景坡
申请人 :
江阴德龙激光能源设备有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市江阴市高新区金山路201号创智产业园智慧坊A座601
代理机构 :
江阴市轻舟专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
孙燕波
优先权 :
CN202020589078.2
主分类号 :
C23C16/54
IPC分类号 :
C23C16/54 C23C16/455 C23C16/56 H01L21/67 H01L21/677 H01L31/18
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/54
连续镀覆的专用设备
法律状态
2021-02-12 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : C23C 16/54
变更事项 : 专利权人
变更前 : 江阴德龙激光能源设备有限公司
变更后 : 江阴德龙能源设备有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 214400 江苏省无锡市江阴市高新区金山路201号创智产业园智慧坊A座601
变更后 : 214400 江苏省无锡市江阴市高新区金山路201号创智产业园智慧坊A座601
变更事项 : 专利权人
变更前 : 江阴德龙激光能源设备有限公司
变更后 : 江阴德龙能源设备有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 214400 江苏省无锡市江阴市高新区金山路201号创智产业园智慧坊A座601
变更后 : 214400 江苏省无锡市江阴市高新区金山路201号创智产业园智慧坊A座601
2021-01-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN212335295U.PDF
PDF下载