本发明属于真空镀膜设备技术领域，具体涉及一种旋转磁场导向沉积的真空镀膜设备及镀膜方法，旋转磁场导向沉积的真空镀膜设备，包括真空弧磁过滤装置、弧源组件和真空镀膜腔室；真空弧磁过滤装置包括过滤管道，所述过滤管道上设有线圈模组，所述过滤管道接近出口端处设置有旋转磁场发生装置，所述旋转磁场发生装置用于在过滤管道接近出口端的内腔区域形成可调旋转磁场。旋转磁场发生装置在过滤管道接近出口端的内腔区域形成可调旋转磁场，离子束在可调旋转磁场在作用下发生偏转，使离子束在出口端以不同的偏转角度和旋转速度离开过滤管道进入真空镀膜腔室，因此，可大大增大一段时间内的沉积镀膜面积。通过对旋转磁场的调控，可以使一段时间内进入真空镀膜腔室的离子在较大的沉积表面上相对较为均匀的分布。