镀膜置物架及镀膜机构
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摘要

本实用新型公开了一种镀膜置物架及镀膜机构,包括载物盘、支架基体及料盘,载物盘上设有多个安装腔,支架基体能够转动,载物盘转动连接于支架基体上,载物盘能够跟随支架基体转动以及相对支架基体进行转动,料盘安装于安装腔内,并能够跟随载物盘转动。本实用新型中的镀膜置物架采用“自转加公转”的转动形式,料盘在相对支架基体转动的同时,能够跟随支架基体的转动而转动,在进行镀膜时,位于支架基体不同位置处的待镀膜件能够跟随料盘的运动而移动,初始位于支架基体边缘处的料盘能够移动至支架基体的中心处以及其他区域,待镀膜件不会因为位置约束出现镀膜边缘薄中心厚的情况,使膜层的厚度更为均匀,优化镀膜效果以及工件的产品性能。

基本信息
专利标题 :
镀膜置物架及镀膜机构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922337424.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-20
授权号 :
CN211522312U
授权日 :
2020-09-18
发明人 :
李婷逯正旺赵学军高家政曾梓伦
申请人 :
凯茂科技(深圳)有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市光明新区公明街道合水口社区下朗工业区第21栋
代理机构 :
广州嘉权专利商标事务所有限公司
代理人 :
谢岳鹏
优先权 :
CN201922337424.8
主分类号 :
C23C14/50
IPC分类号 :
C23C14/50  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2020-09-18 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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