一种石英片加工镀膜机的镀膜机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种石英片加工镀膜机的镀膜机构，涉及石英片加工技术领域，包括镀膜柜和工作柜，所述镀膜柜的下方设置有工作柜，所述镀膜柜通过设置的活动槽与工作柜相贯通，所述镀膜柜的顶部设置有电镀器和空气感应装置，所述镀膜柜的内壁左右两侧均开设有圆形槽，所述圆形槽的内壁均活动连接有转动壳体，所述转动壳体的底部均固定连接有转动器，所述转动器贯穿于圆形槽延伸于镀膜柜的外侧。本实用新型方便在石英晶片镀膜完成后进行翻面，并且使在动过程中石英晶片能够保持稳定，同时可以对镀膜环境内的真空状态进行感应，使电镀装置也能够在最佳的环境中对石英晶片进行镀膜，提高了镀膜工作的效率。
基本信息
专利标题 ：
一种石英片加工镀膜机的镀膜机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022425134.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-27
授权号 ：
CN214458299U
授权日 ：
2021-10-22
发明人 ：
王长征尹佐水王磊
申请人 ：
山东宇峰维创电子有限公司
申请人地址 ：
山东省淄博市张店区房镇镇三赢路淄博科技工业园
代理机构 ：
淄博市众朗知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
程强强
优先权 ：
CN202022425134.1
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/50
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2021-10-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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