高真空卷式镀膜机构
专利权的终止
摘要

一种高真空卷式镀膜机构,主要包含有两真空腔体及至少一组以上的溅镀装置所构成,其中真空腔体是以腔室及一盖体所构成,腔室内部设置有卷布轴、传动轴、滚轴、校正滚动条及张力控制滚动条等带动及输送被镀素材的机傋,两真空腔体内部皆设有卷布轴,该卷布轴是将被镀素材固定设置,被镀素材为成卷绕设在卷布轴,被镀素材是分别绕经传动轴、滚轴、校正滚动条、张力控制滚动条,并进入溅镀装置内进行溅镀作业,以提供被镀素材具有单面或是双面的镀膜层,经过高压放电溅镀的被镀素材再经张力控制滚动条、校正滚动条的中心校正、整平后将完成镀附薄膜的被镀素材卷收成卷。

基本信息
专利标题 :
高真空卷式镀膜机构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620019050.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-03-31
授权号 :
CN2921038Y
授权日 :
2007-07-11
发明人 :
杨成杰林志煌
申请人 :
英志企业股份有限公司
申请人地址 :
台湾省桃园县
代理机构 :
北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司
代理人 :
孙皓晨
优先权 :
CN200620019050.5
主分类号 :
C23C14/34
IPC分类号 :
C23C14/34  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2010-08-04 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止申请日 : 20060331
授权公告日 : 20070711
号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101004341738
IPC(主分类) : C23C 14/34
专利号 : ZL2006200190505
2007-07-11 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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