本发明公开了一种新型真空容器结构的卷对卷真空镀膜设备，包括真空容器，真空容器内设有收放卷室和镀膜室，收放卷室设隔膜阀，收放卷室内各设放卷系统和收卷系统，放卷系统输出基材进入镀膜室中，基材镀膜后复卷至收卷系统上。一种镀膜方法，包括：放卷系统输出基材缠绕镀膜辊一、磁控靶一对镀膜辊一上的基材的第一面进行镀膜；基材通过走膜通道缠绕在镀膜辊二、磁控靶二对镀膜辊二上的基材的第二面进行镀膜，基材镀膜后收卷在收卷系统上；在放卷和收卷更换卷材时，隔膜阀一和隔膜阀二关闭，保持镀膜室一和镀膜室二的真空度。本发明在收放卷材时，关闭隔膜阀，保持镀膜室的真空度不变，镀膜室和收放卷室相互独立，加快抽真空时间，提高生产效率。