卷对卷真空镀膜生产线
公开
摘要
本发明属于镀膜设备技术领域，具体涉及卷对卷真空镀膜生产线，包括主体和分别位于主体两端的放卷机构和收卷机构，主体包括若干并排设置的腔室，腔室分为镀膜室和位于镀膜室两侧依次排列的多个过渡室，每个过渡室远离镀膜室一侧均设有端板，分隔板和端板上均安装有双辊机构，分隔板上的双辊机构用于对待镀基材进行支撑，端板上的双辊机构用于对待镀基材进行支撑、并对第一缝隙进行密封，多个过渡室上均安装有真空泵，若干过渡室的真空度由两边向中间逐级增高。其目的是：通过真空泵对过渡室进行真空抽取，进而间接完成对镀膜室的真空抽取，避免真空泵直接对镀膜室进行真空抽取而造成的，镀膜室内气压不稳定的问题，提高镀膜质量。
基本信息
专利标题 ：
卷对卷真空镀膜生产线
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114561627A
申请号 ：
CN202210152568.X
公开（公告）日 ：
2022-05-31
申请日 ：
2022-02-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
曹蔚琦金湛王亚栋秦琴夏文豪
申请人 ：
重庆诺奖二维材料研究院有限公司
申请人地址 ：
重庆市北碚区云禾路70号201室
代理机构 ：
广州市华学知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄宗波
优先权 ：
CN202210152568.X
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2022-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
