一种用于PVD真空镀膜的真空镀膜炉
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于PVD真空镀膜的真空镀膜炉，涉及到真空镀膜炉技术领域，包括真空镀膜炉体，所述真空镀膜炉体的下表面两侧均固定焊接有支撑腿，所述真空镀膜炉体的内部活动设置有环形上下移动管，并且环形上下移动管的内环内壁均匀分布有若干个镀膜喷头，所述环形上下移动管的外圈表面固定有若干个分布均匀的滑轮，所述真空镀膜炉体的内壁底部竖直固定安装有电动伸缩杆。镀膜喷头对设置于环形上下移动管的内圈通道中的刀具挂架上挂置的刀具进行蒸发溅射镀膜，真空镀膜炉体的内壁底部竖直固定安装的电动伸缩杆通过伸缩使得环形上下移动管进行上下移动，使得所有刀具均可均匀镀膜。
基本信息
专利标题 ：
一种用于PVD真空镀膜的真空镀膜炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921583582.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-23
授权号 ：
CN211036071U
授权日 ：
2020-07-17
发明人 ：
吴晓明
申请人 ：
海盐鑫中岳电子科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省嘉兴市海盐县通元镇育才路西、兴通北路南
代理机构 ：
嘉兴启帆专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李伊飏
优先权 ：
CN201921583582.5
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-07-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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