纳米真空镀膜仪
授权
摘要
本实用新型公开一种纳米真空镀膜仪，包括真空镀膜仪本体，其包括蒸发源、蒸发坩埚以及真空镀膜室，蒸发坩埚位于真空镀膜室底部，真空镀膜室内设置有镀膜零件架，还包括电磁吸附装置，镀膜零件架包括装载盘和固定在装载盘两侧的支杆，支杆外端可移动得设置在真空镀膜室的内壁上，装载盘上表面固定有电磁吸附装置，真空镀膜室顶部向下固定有直杆，直杆通过万向旋转连接头与装载盘固定。与现有技术相比，本实用新型的优点在于：在万向旋转接头的作用下，装载盘与水平面的角度可以调节，使得镀膜的面可以调节，使得镀膜更加均匀，且表面都可以镀膜；滑块可以在直线滑轨上上下移动，从而带动支杆的移动，调节装载盘的倾斜角度，实现镀膜范围可控制。
基本信息
专利标题 ：
纳米真空镀膜仪
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020231888.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-28
授权号 ：
CN211689210U
授权日 ：
2020-10-16
发明人 ：
王宁
申请人 ：
苏州泓沵达仪器科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市相城区太平街道金澄路88-1号8209室
代理机构 ：
无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
汪建华
优先权 ：
CN202020231888.0
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/50
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-10-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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