一种纳米真空镀膜仪
授权
摘要
本实用新型公开一种纳米真空镀膜仪，包括真空镀膜仪本体，其包括蒸发源、蒸发坩埚以及真空镀膜室，蒸发坩埚位于真空镀膜室底部，所述真空镀膜室内设置有镀膜零件架，还包括电磁吸附装置，镀膜零件架包括第一架体和第二架体，第一架体和第二架体均包括装载盘以及固定在装载盘两侧的电动旋转杆，装载盘一侧固定有电磁吸附装置。本实用新型的优点在于：第一架体和第二架体的设置，由于其固定有现有的电磁吸附装置，可以对于需要镀膜的零件进行固定，且第一架体和第二架体可以配合吸附后旋转，完成对于待镀膜零件的翻面镀膜；滑轨的设置能够使得第一架体和第二架体之间能够分离，使得装载盘能够进行旋转，完成对于需要镀膜的零件的整体镀膜。
基本信息
专利标题 ：
一种纳米真空镀膜仪
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020231911.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-28
授权号 ：
CN211689211U
授权日 ：
2020-10-16
发明人 ：
王宁
申请人 ：
苏州泓沵达仪器科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市相城区太平街道金澄路88-1号8209室
代理机构 ：
无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
汪建华
优先权 ：
CN202020231911.6
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/50
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-10-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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