一种纳米真空镀膜仪
授权
摘要
本实用新型公开了一种纳米真空镀膜仪，包括镀膜筒体、蒸发箱和抽气装置，镀膜筒体内设置有真空镀膜室，真空镀膜室通过第一管道与蒸发箱连通，蒸发箱通过第二管道与抽气装置连通，真空镀膜室内设置有旋转机构，旋转机构包括电机和旋转柱，电机设置在镀膜筒体上且电机的输出轴与旋转柱的一端连接，旋转柱的另一端穿过真空镀膜室一侧且旋转柱上设置有旋转台，旋转台位于真空镀膜室内，旋转台上设置有固定柱，本实用新型的目的在于提供易于在工件上均匀成膜的一种纳米真空镀膜仪。
基本信息
专利标题 ：
一种纳米真空镀膜仪
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020233758.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-28
授权号 ：
CN211689214U
授权日 ：
2020-10-16
发明人 ：
王宁
申请人 ：
苏州泓沵达仪器科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市相城区太平街道金澄路88-1号8209室
代理机构 ：
无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
丰叶
优先权 ：
CN202020233758.0
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/56
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-10-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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