一种纳米真空镀膜仪
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摘要
本实用新型公开了一种纳米真空镀膜仪，包括机架，机架上固设有真空室，真空室内顶部设有基片台、内底部对应于基片台的下方位置设有蒸发源；真空室上端开口，并在该开口处设有启闭的上盖，上盖上设有旋转电机，旋转电机与基片台连接，且旋转电机的中心线与基片台的中心线重合；真空室外部两侧设有自动伸缩杆，自动伸缩杆的上端与上盖铰接、下端与机架铰接；上盖在盖合时，自动伸缩杆处于收缩状态；真空室与抽真空机组相连。通过旋转电机可带动基片台转动，使基片台上的待镀工件镀膜更均衡；自动伸缩杆的使用，手工打开锁扣后，自动将上盖上翻，极大的方便了设备的清洗保养工作，节省了人力，提高了工作效率。
基本信息
专利标题 ：
一种纳米真空镀膜仪
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020226528.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-28
授权号 ：
CN211689209U
授权日 ：
2020-10-16
发明人 ：
王宁
申请人 ：
苏州泓沵达仪器科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市相城区太平街道金澄路88-1号8209室
代理机构 ：
无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
许云峰
优先权 ：
CN202020226528.1
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/50 C23C14/56
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-10-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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