一种高节能高效率纳米真空镀膜仪
专利申请权、专利权的转移
摘要

本实用新型公开了高节能高效率纳米真空镀膜仪,包括蒸发源,蒸发源包括具有蒸发腔的柱形坩埚,柱形坩埚的顶部设有盖体,盖体上开设有出气口,柱形坩埚的内底面设有第一凸台,柱形坩埚的外底面上设有凹槽,柱形坩埚的上端内壁为锥形面,盖体的外边缘依次设有相连接的三个环形板,三个环形板分别与柱形坩埚的锥形面、上端面及上端外壁紧密贴合。通过在柱形坩埚内设置第一凸台,在进行真空蒸镀时,能增大蒸发材料与柱形坩埚的受热面积,以提高蒸发效率;柱形坩埚上设有锥形面,盖体上设置多个环形板分别与柱形坩埚的上端紧密贴合,有利于提高柱形坩埚与盖体边缘连接的密封性能,使蒸发后的气体仅从出气口射出,防止沉积到其他位置造成材料的浪费。

基本信息
专利标题 :
一种高节能高效率纳米真空镀膜仪
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020211203.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-02-25
授权号 :
CN211689204U
授权日 :
2020-10-16
发明人 :
王宁
申请人 :
苏州泓沵达仪器科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市相城区太平街道金澄路88-1号8209室
代理机构 :
无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
汪建华
优先权 :
CN202020211203.6
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24  C23C14/54  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-03-08 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : C23C 14/24
登记生效日 : 20220223
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 苏州泓沵达仪器科技有限公司
变更后权利人 : 英纳科(苏州)半导体科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 215000 江苏省苏州市相城区太平街道金澄路88-1号8209室
变更后权利人 : 215000 江苏省苏州市吴江区江陵街道芦荡路168号(凌益路北侧)
2020-10-16 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332