一种高效率真空镀膜系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种高效率真空镀膜系统，包括镀膜架、镀膜室、中央处理器和控制装置；所述镀膜架和中央处理器均位于所述镀膜室内，所述控制装置设置在所述镀膜室外；所述真空镀膜系统还包含有镀膜装置，且镀膜装置设有多个均位于所述镀膜室内。
基本信息
专利标题 ：
一种高效率真空镀膜系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020318038.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-12
授权号 ：
CN211937584U
授权日 ：
2020-11-17
发明人 ：
郭俊春
申请人 ：
重庆盛科纳科技有限公司
申请人地址 ：
重庆市九龙坡区西效路24巷17号10-1号
代理机构 ：
重庆千石专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
黄莉
优先权 ：
CN202020318038.4
主分类号 ：
B05B16/20
IPC分类号 ：
B05B16/20
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05B
喷射装置；雾化装置；喷嘴
B05B16/00
喷漆室
B05B16/20
与其他操作相结合的喷射装置，如烘干；实现喷涂操作的结合的装置
法律状态
2020-11-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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