一种高效率真空镀膜系统
专利权的终止
摘要
实用新型公开了一种高效率真空镀膜系统，包括：工作腔和设置在工作腔内的基板，所述工作腔的顶部设置有多个烘干机构，所述烘干机构包括：基座、支杆、灯罩和红外线灯，所述基座固定设置在工作腔的顶部的下表面，所述基座上固定连接有支杆，所述支杆下端铰接有灯罩，所述灯罩内设置有红外线灯，所述工作腔的顶部设置有第一温度传感器，所述工作腔的底部设置有第二温度传感器。通过上述方式，本实用新型提供的高效率真空镀膜系统，可快速干燥膜，同时让膜深度渗透，经烘烤后的镀膜硬度大大增加，还能对膜面进行持久的保护。
基本信息
专利标题 ：
一种高效率真空镀膜系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921022976.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-03
授权号 ：
CN210287486U
授权日 ：
2020-04-10
发明人 ：
陈学兵王光辉
申请人 ：
苏州普京真空技术有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市虎丘区高新区金狮大厦11楼AB座
代理机构 ：
苏州广正知识产权代理有限公司
代理人 ：
孙茂义
优先权 ：
CN201921022976.3
主分类号 ：
C23C14/22
IPC分类号 ：
C23C14/22
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2022-06-14 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 14/22
申请日 : 20190703
授权公告日 : 20200410
终止日期 : 20210703
申请日 : 20190703
授权公告日 : 20200410
终止日期 : 20210703
2020-04-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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