一种纯离子真空镀膜系统
授权
摘要
本发明涉及一种纯离子真空镀膜系统，包括真空容器，真空容器与抽真空装置相连接，真空容器内设置有用于装配待镀膜的基底材料的装配装置，真空容器上还设置有离子束清洗设备和纯离子真空镀膜设备。本发明提供的上述技术方案，通过离子束清洗设备+纯离子真空镀膜设备，在纯离子真空镀膜前，采用离子束清洗设备对基底材料的表面进行清洗处理，使得基底材料表面吸附的气体分子被完全去除，提高结合力。
基本信息
专利标题 ：
一种纯离子真空镀膜系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020050506.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-10
授权号 ：
CN211445881U
授权日 ：
2020-09-08
发明人 ：
张心凤夏正卫范宏跃
申请人 ：
安徽纯源镀膜科技有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市高新区永和路99号F栋
代理机构 ：
合肥九道和专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
李蕾
优先权 ：
CN202020050506.4
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32 C23C14/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2020-09-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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