离子束发生装置
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及离子束发生装置,包括腔体,腔体上开有空气入口及离子束出口,所述腔体由顺序连接的主腔体、上腔体及副腔体构成,所述空气入口位于所述主腔体上,所述离子束出口有二个,一级离子束出口位于所述主腔体的尾部,二级离子束出口位于所述副腔体的出口端,所述主腔体内顺序装置平面涡流器及第一离子束发生器,所述上腔体内装置螺旋涡流器,所述副腔体内装置第二离子束发生器。本实用新型可通过两级离子束发生器使气体导流、加速、聚焦及电离,可以生成高密度、高能量、高纯度的离子束。

基本信息
专利标题 :
离子束发生装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720043540.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-10-08
授权号 :
CN201113231Y
授权日 :
2008-09-10
发明人 :
吴志良叶鹏
申请人 :
叶鹏;吴志良
申请人地址 :
214174江苏省无锡市惠山区堰桥镇工业园
代理机构 :
无锡华源专利事务所
代理人 :
聂汉钦
优先权 :
CN200720043540.3
主分类号 :
H01T23/00
IPC分类号 :
H01T23/00  
法律状态
2014-12-03 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101589574958
IPC(主分类) : H01T 23/00
专利号 : ZL2007200435403
申请日 : 20071008
授权公告日 : 20080910
终止日期 : 20131008
2008-09-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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