低能离子束细胞修饰技术和装置
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明是低能离子束细胞修饰技术和装置。$本发明技术是用低能离子束溅射刻蚀对放在微环境靶室内的并经过预冷的动、植物细胞进行溅射刻蚀，外源基因导入，细胞融合等。$本发明装置是由一个离子源，一个可使离子束通过的主真空室和一个微环境靶室组成。微环境靶室内装有样品架，配有预抽系统，装有高效过滤材料和气源接口的气流净化结构。主真空室与微环境靶室是由隔离阀连接的。
基本信息
专利标题 ：
低能离子束细胞修饰技术和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1077495A
申请号 ：
CN93103361.6
公开（公告）日 ：
1993-10-20
申请日 ：
1993-03-26
授权号 ：
CN1058291C
授权日 ：
2000-11-08
发明人 ：
余增亮何建军杨剑波吴跃进陈备久周骏沈玉琴孙洪奎尹载群
申请人 ：
中国科学院等离子体物理研究所
申请人地址 ：
230031安徽省合肥市1126信箱
代理机构 ：
中国科学院合肥专利事务所
代理人 ：
周国城
优先权 ：
CN93103361.6
主分类号 ：
C12N13/00
IPC分类号 ：
C12N13/00 C12M1/42
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C12
生物化学；啤酒；烈性酒；果汁酒；醋；微生物学；酶学；突变或遗传工程
C12N
微生物或酶；其组合物；繁殖、保藏或维持微生物；变异或遗传工程；培养基。
C12N13/00
用电或波能，如磁、声波处理微生物或酶
法律状态
2006-05-24 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
2000-11-08 ：
授权
1993-10-20 ：
公开
1993-10-13 ：
实质审查请求的生效
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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