用于离子束聚焦的系统和方法
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摘要
提供了用于聚焦离子注入器(110)中的被扫描的离子束的系统与方法。一种束聚焦系统(140)被提供，其包含：第一与第二磁体，用以提供对应的磁场，其协同地提供具有时变的聚焦场中心的磁性聚焦场，该聚焦场中心通常对应于沿着扫描方向的被扫描的离子束的时变的束位置。提供了方法，包含：提供具有聚焦场中心的聚焦场于扫描平面内；以及动态调整该聚焦场，使得聚焦场中心通常符合于沿着扫描方向的被扫描的离子束的时变的束位置。
基本信息
专利标题 ：
用于离子束聚焦的系统和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101080802A
申请号 ：
CN200580043440.4
公开（公告）日 ：
2007-11-28
申请日 ：
2005-10-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
V·班威尼斯特P·克雷曼
申请人 ：
艾克塞利斯技术公司
申请人地址 ：
美国马萨诸塞州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
张雪梅
优先权 ：
CN200580043440.4
主分类号 ：
H01J37/317
IPC分类号 ：
H01J37/317 H01J37/147
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/30
物体局部处理用的电子束管或离子束管
H01J37/317
用于改变物体的特性或在其上加上薄层的，如离子注入
法律状态
2010-09-01 ：
授权
2008-01-23 ：
实质审查的生效
2007-11-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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