自动聚焦系统、自动聚焦方法及使用该系统的曝光设备
授权
摘要
一种自动聚焦系统包括，其上安装衬底的载物台，以不同的角度用导向衬底的大量聚焦光束照射衬底的光源，探测从衬底反射的聚焦光束的传感器，以及控制器，根据由传感器探测聚焦光束的位置决定衬底表面的相对位置并由此放置衬底。为此，控制器执行计算，不受聚焦光束通过其传播到衬底表面的介质的折射率变化影响。因此，用较高的精度进行自动聚焦工序。
基本信息
专利标题 ：
自动聚焦系统、自动聚焦方法及使用该系统的曝光设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1776530A
申请号 ：
CN200510125335.7
公开（公告）日 ：
2006-05-24
申请日 ：
2005-11-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
朴东云
申请人 ：
三星电子株式会社
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
林宇清
优先权 ：
CN200510125335.7
主分类号 ：
G03F7/207
IPC分类号 ：
G03F7/207 G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
G03F7/207
聚焦装置，例如自动地
法律状态
2009-04-08 ：
授权
2006-07-19 ：
实质审查的生效
2006-05-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN1776530A.PDF
PDF下载
2、
CN100476596C.PDF
PDF下载
