一种精密真空镀膜系统
授权
摘要
本实用新型具体涉及一种精密真空镀膜系统，本精密真空镀膜系统包括：镀膜环境控制装置，用于输出氩气；和镀膜装置，连接所述镀膜环境控制装置，用于真空中产生电场电离氩气产生氩离子轰击靶材表面，使靶材发生溅射；传动装置，用于接收溅射出的靶材以对物料进行镀膜，并夹持物料转动，以使溅射出的靶材覆盖物料表面；以及监测控制装置，连接所述镀膜装置，用于采集镀膜装置工作参数，并根据镀膜装置工作参数控制镀膜环境控制装置的氩气输出量；本实用新型通过电场电离氩气产生氩离子轰击靶材表面，使靶材溅射至物料表面进行镀膜，实现磁控溅射为核心的光电镀膜，能够制备特殊光电特性的薄膜产品，实现可批量化制造。
基本信息
专利标题 ：
一种精密真空镀膜系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022197303.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-29
授权号 ：
CN213327812U
授权日 ：
2021-06-01
发明人 ：
陈箫箫
申请人 ：
亚芯半导体材料（江苏）有限公司;亚芯镀膜设备常州有限公司;林胜乐
申请人地址 ：
江苏省常州市天宁区青洋北路143号创业服务中心内
代理机构 ：
常州市权航专利代理有限公司
代理人 ：
赵慧
优先权 ：
CN202022197303.0
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2021-06-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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