一种纳米真空镀膜装置
专利权的终止
摘要
本实用新型涉及纳米真空镀膜机配件技术领域，且公开了一种纳米真空镀膜装置，包括纳米真空镀膜机本体，纳米真空镀膜机本体内部的框架内设有用于放置手机的密封板，所述密封板的外侧固定安装有橡胶圈，所述密封板的中部开设有方形口，所述方形口的内测固定安装有弹性橡胶，所述弹性橡胶位于方形口的一侧，所述密封板的内部开设有方形槽，所述方形槽与方形口连通。该纳米真空镀膜装置，通过弹簧的弹性，使得移动块推动橡胶块与弹性橡胶接触，使得手机夹持在两者之间，在移动块的挤压下，并使橡胶块和弹性橡胶两者形变，从而包裹手机，并对方形槽的空间进行填补，避免影响密封效果。
基本信息
专利标题 ：
一种纳米真空镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920505421.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-15
授权号 ：
CN209941086U
授权日 ：
2020-01-14
发明人 ：
江成龙
申请人 ：
玛奇纳米科技（苏州）有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市常熟虞山高新技术产业园苏州路40号1幢
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920505421.8
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2022-04-08 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 14/50
申请日 : 20190415
授权公告日 : 20200114
终止日期 : 20210415
申请日 : 20190415
授权公告日 : 20200114
终止日期 : 20210415
2020-01-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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