一种纳米真空镀膜仪的智能腔体上盖
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摘要

本实用新型公开了一种纳米真空镀膜仪的智能腔体上盖,包括设置在腔体上端开口处的上盖,所述腔体放置在纳米真空镀膜仪的台面上,所述上盖的一端铰接在腔体上,所述上盖的另一端与腔体通过锁扣连接;其特征在于:还设置有自动伸缩杆,所述自动伸缩杆的上端与上盖铰接,所述自动伸缩杆与台面或腔体下端铰接,所述自动伸缩杆在上盖盖合时处于收缩状态。通过两根自动伸缩杆,该自动伸缩杆的一端与腔体上盖的边缘连接,另一端与镀膜仪的台面固定,上盖与腔体之间通过一个锁扣进行紧固,当该锁扣打开时,自动伸缩杆就会伸长,带动上盖缓缓打开,实现自动上翻的功能。

基本信息
专利标题 :
一种纳米真空镀膜仪的智能腔体上盖
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020206525.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-02-25
授权号 :
CN211689203U
授权日 :
2020-10-16
发明人 :
王宁
申请人 :
苏州泓沵达仪器科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市相城区太平街道金澄路88-1号8209室
代理机构 :
无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
许云峰
优先权 :
CN202020206525.1
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-10-16 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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