高效纳米真空镀膜仪
授权
摘要
本实用新型公开了一种高效纳米真空镀膜仪，包括底座，底座上设置有真空室，真空室顶部设置有镀膜气缸，镀膜气缸的活塞杆贯穿真空室并与镀膜机构连接，真空室侧壁设置有通槽，底座上设置有滑动槽，滑动槽一端位于真空室内，滑动槽内沿长度设置有滑轨，滑轨通过滑块与加工机构连接，底座上设置有与滑块连接的加工气缸，加工机构能通过加工气缸驱动滑块带动其在滑轨上做往复运动并穿过通槽，当加工机构移动至滑轨位于真空室内一端时，加工机构位于镀膜机构下方，加工机构侧壁能与通槽内壁接触，装置结构简单，能够实现高效镀膜。
基本信息
专利标题 ：
高效纳米真空镀膜仪
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020233505.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-28
授权号 ：
CN211689212U
授权日 ：
2020-10-16
发明人 ：
王宁
申请人 ：
苏州泓沵达仪器科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市相城区太平街道金澄路88-1号8209室
代理机构 ：
无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
丰叶
优先权 ：
CN202020233505.3
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/50 C23C14/56
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-10-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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