一种纳米真空镀膜用材料蒸发装置

专利权的终止

摘要

本实用新型公开了一种纳米真空镀膜用材料蒸发装置，包括箱体，箱体的顶部固定连接有蒸发框，蒸发框内壁的底部固定连接有导热板，导热板的底部固定连接有加热器，蒸发框的中心转动连接有转轴，转轴的顶部设置有垫片，转轴的表面通过螺母固定连接有转动架，转动架的底部固定连接有刮刀，转动架的边缘处固定连接有圆环，箱体内壁的底部依次固定连接有电机和减速器，箱体的顶部一侧固定连接有料斗，料斗的底部连通有导料管，导料管的一端与蒸发框的一侧连通，本实用新型涉及真空镀膜技术领域。该种纳米真空镀膜用材料蒸发装置，解决了蒸发装置容易出现加热不均匀的现象，导致镀膜材料飞溅或沉积，导致蒸发效果差的问题。

基本信息

专利标题：

一种纳米真空镀膜用材料蒸发装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920505381.7

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-04-15

授权号：

CN209941081U

授权日：

2020-01-14

发明人：

江成龙

申请人：

玛奇纳米科技（苏州）有限公司

申请人地址：

江苏省苏州市常熟虞山高新技术产业园苏州路40号1幢

代理机构：

代理人：

优先权：

CN201920505381.7

主分类号：

C23C14/24

IPC分类号：

C23C14/24 C23C14/50