用于蒸发源材料的蒸发装置、蒸发源和沉积系统
授权
摘要
本文描述的实施方式涉及一种用于蒸发源材料(150)的蒸发装置(100)，所述蒸发装置包括蒸发坩埚(110)和支撑布置(120)，所述支撑布置(120)具有多个材料托盘(125)，所述多个材料托盘(125)用于在所述多个材料托盘(125)上布置源材料。所述支撑布置(120)可去除地放置在所述蒸发坩埚(110)的内部体积(115)中。本文描述的实施方式还涉及一种蒸发源(200)和一种具有蒸发装置(100)的沉积系统(300)。
基本信息
专利标题 ：
用于蒸发源材料的蒸发装置、蒸发源和沉积系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920989907.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-27
授权号 ：
CN211227301U
授权日 ：
2020-08-11
发明人 ：
塞巴斯蒂安·弗兰克伊夫林·舍尔斯特凡·凯勒安德烈亚斯·穆勒佩曼·哈梅格朱利安·奥巴赫
申请人 ：
应用材料公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN201920989907.3
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/12
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IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-08-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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