薄膜材料沉积反应装置和薄膜材料沉积反应系统

授权

摘要

本实用新型公开一种薄膜材料沉积反应装置和薄膜材料沉积反应系统，其中，所述薄膜材料沉积反应装置包括：气体分布台，设有扩散槽，所述扩散槽的底壁设有供气孔，所述气体分布台用于对膜材表面进行原子层沉积；隔板，盖设于所述扩散槽的槽口，并与所述扩散槽的内壁围合形成扩散腔，所述隔板开设有与所述扩散腔连通的开口，所述供气孔与所述扩散腔连通；及扩散板，设于所述扩散腔内，并将所述扩散腔分隔为两个扩散室，所述扩散板开设有多个扩散孔，多个所述扩散孔连通两个所述扩散室。本实用新型提出的薄膜材料沉积反应装置升膜材表面与前驱体或反应物接触反应的充分性。

基本信息

专利标题：

薄膜材料沉积反应装置和薄膜材料沉积反应系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020670125.6

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-04-27

授权号：

CN212335284U

授权日：

2021-01-12

发明人：

李哲峰张光海

申请人：

深圳市原速光电科技有限公司

申请人地址：

广东省深圳市宝安区新安街道群辉路1号优创空间一号楼511-513

代理机构：

深圳市世纪恒程知识产权代理事务所

代理人：

许峰

优先权：

CN202020670125.6

主分类号：

C23C16/455

IPC分类号：

C23C16/455