一种沉积反应腔的排气系统及薄膜沉积设备
实质审查的生效
摘要
本申请公开一种沉积反应腔的排气系统及薄膜沉积设备，涉及薄膜沉积技术领域，该排气系统具有维护周期长，堵塞风险低的有益效果。原子层沉积反应腔的排气系统包括第一排气管、除尘装置和真空泵，第一排气管的两端分别与反应腔和除尘装置连通，第一排气管的管壁开设有外介质进口，外介质进口用于通入反应介质，反应介质能够与第一排气管中的气态反应物反应而产生粉尘状的物质；真空泵与除尘装置的气体出口连通。
基本信息
专利标题 ：
一种沉积反应腔的排气系统及薄膜沉积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114351119A
申请号 ：
CN202111531263.1
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2021-12-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
林健赵继财李绍鹏肖政焦龙生李鹏王建波
申请人 ：
泰州隆基乐叶光伏科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省泰州市海陵区兴泰南路268号
代理机构 ：
北京知迪知识产权代理有限公司
代理人 ：
王胜利
优先权 ：
CN202111531263.1
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 C23C16/54 C23C16/20 C23C16/18
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/455
申请日 : 20211214
申请日 : 20211214
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
