本申请公开了一种薄膜沉积设备，该薄膜沉积设备包括：底座、位于底座上的侧壁、以及位于侧壁上与底座相对设置的上盖，底座、侧壁和上盖围成薄膜沉积设备的反应腔室，其中，薄膜沉积设备还包括位于反应腔室中的承载盘和用于提供气体的喷头，喷头位于承载盘上方，上盖上设置有与喷头相对应的多个流道，每个流道沿径向设置并具有一定的旋向，多个流道的旋向与承载盘的转动方向一致。该设计使得设备内反应腔室中的气体受流道的约束，提高了气流的稳定性，减少了气体逸散，提高原料利用率，进而提高生成薄膜的质量，降低成本。