本申请提供一种反应装置及薄膜沉积设备，反应装置包括反应部及连接到反应部的排出管路，反应部至少包括一个可供气体发生反应的反应室及与反应室连通的排出室，排出室包括连通至反应室的第一端及可对接排出管路的第二端，以通过排出室及排出管路将反应室内的气体排出。该排出室包括挡板，其设置于第一端以间隔反应室和排出室，挡板上开设有多个第一气孔，排出室通过第一气孔连通至反应室；以及至少一个均流板，其设置于第一端与所述第二端之间，均流板上开设有多个第二气孔；所述挡板对流体的阻力小于所述均流板对流体的阻力，以解决因排气而影响反应腔内气场的均匀性的技术问题。