薄膜沉积装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种薄膜沉积装置。薄膜沉积装置包括：基座，基座开设有第一圆形轨；载盘，用于放置待加工件；公转组件，公转组件与载盘驱动连接，用于驱动载盘沿第一圆形轨移动；自转组件，用于驱动载盘绕自身中心轴线转动；角度调节组件，角度调节组件与载盘位置可调地连接，用于调节载盘的倾斜角度。本实用新型解决了现有技术中薄膜沉积的均一性较低的问题。
基本信息
专利标题 ：
薄膜沉积装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123085764.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-08
授权号 ：
CN216550681U
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
肖峰苏财钰张彬彬苟先华
申请人 ：
重庆康佳光电技术研究院有限公司
申请人地址 ：
重庆市璧山区璧泉街道钨山路69号（1号厂房）
代理机构 ：
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
唐振北
优先权 ：
CN202123085764.X
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C14/54 C23C16/458 C23C16/52 H01L33/44
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2022-05-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
