铁氧体热蒸镀薄膜沉积设备

专利权的终止

摘要

一种铁氧体热蒸镀薄膜沉积设备，包括腔体、可移动式平台，腔体内设有两组可旋转的十二角形滚筒，该滚筒环周设有置放被镀物的治具，腔体的基座位置则设有一组可移动式平台，该平台上设置三列九组的钨舟；从而，可利用可移动式蒸发源机构的移位，搭配滚筒的旋转，达到高效率的产能，此外利用本设备偏压装置的放电效应，可有效提升腔体内的洁净度，进而提升镀膜质量及降低成本的目标。

基本信息

专利标题：

铁氧体热蒸镀薄膜沉积设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820301891.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-08-21

授权号：

CN201261803Y

授权日：

2009-06-24

发明人：

永崎高人

申请人：

赖盈方

申请人地址：

中国台湾高雄市楠梓区德祥路152巷4号7楼之2

代理机构：

长沙正奇专利事务所有限责任公司

代理人：

何为

优先权：

CN200820301891.4

主分类号：

C23C14/24

IPC分类号：

C23C14/24 C23C14/08 C23C14/52

IPC结构图谱

C部——化学；冶金

C23

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制

C23C

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆

C23C14/00

通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆

C23C14/22

以镀覆工艺为特征的

C23C14/24

真空蒸发

法律状态

2011-11-02 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101127317866
IPC(主分类) : C23C 14/24
专利号 : ZL2008203018914
申请日 : 20080821
授权公告日 : 20090624
终止日期 : 20100821

2009-06-24 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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