一种薄膜蒸镀设备冷却回路装置
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摘要

本实用新型公开了一种薄膜蒸镀设备冷却回路装置,包括箱体,箱体底部设置有进气口,进气口与薄膜蒸镀设备连接,箱体设置有夹层,夹层内缠绕连接有制冷管,箱体内设置有穿流板,穿流板设置有多个,多个穿流板均与箱体内壁卡扣连接,多个穿流板上均设置有过气孔,过气孔均匀排列在相匹配的穿流板上,箱体顶部与进气口相对应处设置有出气口,出气口上设置有单向气阀,箱体外表面上设置有保温层,保温层与箱体外表面固定连接,箱体一侧设置有空气压缩机,空气压缩机与制冷管连接。本实用新型具有方便对油蒸汽分离出的油进行处理,方便操作的有益效果,其主要用于冷却。

基本信息
专利标题 :
一种薄膜蒸镀设备冷却回路装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921967482.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-11-14
授权号 :
CN211005583U
授权日 :
2020-07-14
发明人 :
钱万勇
申请人 :
苏州三原流体科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市高新区浒青路156号
代理机构 :
北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
周超
优先权 :
CN201921967482.2
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-07-14 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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