一种蒸镀速率测量装置及蒸镀设备
授权
摘要
本实用新型涉及蒸镀技术领域，公开了一种蒸镀速率测量装置及蒸镀设备，该蒸镀速率测量装置包括：至少两个石英晶体微天平；切换机构，所述切换机构的输入端可选择的与所述至少两个石英晶体微天平中一个石英晶体微天平电连接，以用于切换所述至少两个石英晶体微天平；振荡器，所述振荡器与所述切换机构的输出端电连接；信号处理机构，所述信号处理机构与所述振荡器电连接，以用于对接收到的信号进行处理得出蒸镀速率。该蒸镀速率测量装置相比现有技术中的装置，减少了装置的排线工作量以及信号处理器连接端口的占用量，并且能够提高生产效率以及降低工作人员的工作量。
基本信息
专利标题 ：
一种蒸镀速率测量装置及蒸镀设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021332795.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-07
授权号 ：
CN212983043U
授权日 ：
2021-04-16
发明人 ：
齐家元李小东
申请人 ：
合肥欣奕华智能机器有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市新站区龙子湖路与荆山路交口西南
代理机构 ：
北京同达信恒知识产权代理有限公司
代理人 ：
李迪
优先权 ：
CN202021332795.3
主分类号 ：
C23C14/54
IPC分类号 ：
C23C14/54 C23C14/24
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/54
镀覆工艺的控制或调节
法律状态
2021-04-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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