一种速率监测器及蒸镀装置
授权
摘要
本实用新型提供了一种速率监测器及蒸镀装置，所述速率监测器用于蒸镀装置中监测蒸镀速率，所述速率监测器包括：晶振基座罩；晶振基座，所述晶振基座设在所述晶振基座罩内，所述晶振基座上设有开口；及，晶振片，所述晶振片设置在所述晶振基座上，并位于所述开口的一侧，与所述开口位置正对；所述速率监测器还包括口径调节部件，所述口径调节部件设置在所述开口处，用于调节所述开口的口径大小。本实用新型所提供的速率监测器及蒸镀装置能够蒸镀时调节晶振片上材料的沉积速率，以兼顾晶振片的使用寿命及速率监控准确性。
基本信息
专利标题 ：
一种速率监测器及蒸镀装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020045849.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-09
授权号 ：
CN211771525U
授权日 ：
2020-10-27
发明人 ：
晏荣建
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京银龙知识产权代理有限公司
代理人 ：
许静
优先权 ：
CN202020045849.1
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-10-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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