一种薄膜蒸镀装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种薄膜蒸镀装置，包括真空腔体，所述真空腔体包括顶端开口的本体和设置到所述本体的开口端的盖板，所述本体具有相对的第一侧壁和第三侧壁、相对的第二侧壁和第四侧壁，还包括设置到所述本体内的第一辊筒组件，所述第一辊筒组件设有至少一个第一辊组件；所述第一辊组件包括分别与所述第一侧壁相对的第一放卷辊、第一过辊、第二过辊、第三过辊和第一收卷辊；所述本体的内部设有用于对薄膜的A面和B面分别进行蒸镀的第一下部蒸发源和第一上部蒸发源。本实用新型可实现薄膜的两面的镀膜工作，生产效率高，生产成本低，生产时间少，生产场地的占用空间小。
基本信息
专利标题 ：
一种薄膜蒸镀装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122778000.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-12
授权号 ：
CN216639638U
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
臧世伟
申请人 ：
重庆金美新材料科技有限公司
申请人地址 ：
重庆市綦江区古南街道陵园路28号
代理机构 ：
深圳市深可信专利代理有限公司
代理人 ：
李宇绘
优先权 ：
CN202122778000.2
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2022-05-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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