相异材料的气相沉积
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

一种在衬底上沉积第一材料的方法,包括在沉积室中提供衬底。通过熔化一种或多种第二材料在衬底和第一材料源之间形成熔体。使第一材料流通过熔体,并以蒸汽流形式从熔体到衬底。熔体的基本非消耗部分包括熔化温度低于第一材料熔化温度的合金。

基本信息
专利标题 :
相异材料的气相沉积
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1776001A
申请号 :
CN200510125476.9
公开(公告)日 :
2006-05-24
申请日 :
2005-11-17
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
I·V·贝洛索夫I·S·马拉申科G·A·塞尔希延科A·N·舍尔科沃伊R·L·梅门D·A·拉茨M·D·金斯特勒
申请人 :
联合工艺公司
申请人地址 :
美国康涅狄格州
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
范赤
优先权 :
CN200510125476.9
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24  C23C14/14  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2009-06-17 :
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-07-19 :
实质审查的生效
2006-05-24 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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