材料的沉积
视为撤回的专利申请
摘要
通过一真空系统用来连续地在材料上沉积的装置和方法。所提供的盒式载体用于双衬底和激励电极。减少系统的污染和所加涂层的混合掺杂。
基本信息
专利标题 ：
材料的沉积
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN86102741A
申请号 ：
CN86102741.8
公开（公告）日 ：
1987-10-07
申请日 ：
1986-03-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
佐尔丹·基斯
申请人 ：
克朗纳公司
申请人地址 ：
美国新泽西州
代理机构 ：
中国专利代理有限公司
代理人 ：
肖春京
优先权 ：
CN86102741.8
主分类号 ：
C23C16/54
IPC分类号 ：
C23C16/54 C23C16/22
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/54
连续镀覆的专用设备
法律状态
1992-08-19 ：
视为撤回的专利申请
1989-09-06 ：
实质审查请求
1987-10-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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