一种真空镀膜蒸发装置
授权
摘要
本实用新型属于真空镀膜技术领域，尤其为一种真空镀膜蒸发装置，包括工作台，所述工作台顶部设有旋转台，所述旋转台顶部设有镀膜坩埚，且所述工作台顶部设有电极本体，所述镀膜坩埚开设有若干个放置腔，若干个所述放置腔内均设有储存皿，若干个所述储存皿外壁均固定连接有把手，且所述镀膜坩埚开设有与所述把手相对应的避让槽；本实用新型中通过设置的多个储存皿分别位于多个放置腔内，储存皿能够盛放镀膜药剂，由于放置腔与避让槽连通，并且避让槽的宽度小于放置腔的直径，能够使储存皿稳定的放置在放置腔内部，储存皿上的把手位于避让槽内，可以通过把手直接的操作储存皿，便于对储存皿进行处理。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜蒸发装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022071938.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-21
授权号 ：
CN215103494U
授权日 ：
2021-12-10
发明人 ：
苏文校
申请人 ：
东莞市优上纳米科技有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市长安镇上沙社区华强路6号A栋三楼
代理机构 ：
广东有知猫知识产权代理有限公司
代理人 ：
李志海
优先权 ：
CN202022071938.6
主分类号 ：
C23C14/30
IPC分类号 ：
C23C14/30
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2021-12-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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