蒸发真空镀膜机用蒸发装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种蒸发真空镀膜机用蒸发装置，其技术方案要点是包括支撑板、转轴、固定连接在支撑板底部的电机、固定连接在转轴顶部外周上的若干蒸发块、沿竖直方向贯穿蒸发块的蒸发孔、固定连接在蒸发块底部的电阻板、固定连接在电阻板底部的正极凸块、固定连接在电阻板底部的负极凸块、固定连接在支撑板顶部的正极柱、固定连接在支撑板顶部的负极柱、固定连接在支撑板顶部的竖板以及固定连接在竖板顶部的密封板，对其中一蒸发块的蒸发孔中的材料进行蒸发的时候，其他蒸发块的蒸发孔都会被密封板密封住，从而使得蒸发孔当中的材料不会产生污染，从而使得该材料蒸发后在零件表面形成的膜中不含有其他杂质，从而提高了膜的质量。
基本信息
专利标题 ：
蒸发真空镀膜机用蒸发装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921187138.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-26
授权号 ：
CN210560698U
授权日 ：
2020-05-19
发明人 ：
傅志坚
申请人 ：
青岛华磊真空镀膜有限公司
申请人地址 ：
山东省青岛市即墨市北安办事处刘家后戈庄村
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921187138.1
主分类号 ：
C23C14/26
IPC分类号 ：
C23C14/26
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/26
电阻加热蒸发源法或感应加热蒸发源法
法律状态
2020-05-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
