一种PVD多弧真空镀膜机蒸发源
授权
摘要
本实用新型提供一种PVD多弧真空镀膜机蒸发源，包括蒸发源本体和冷却水管，蒸发源本体内具有用于冷却安装于蒸发源本体上的靶块的冷却水腔，冷却水管为两根，冷却水管包括第一管体和第二管体，两根第一管体的前端分别连接冷却水腔的入口端和出口端，两根第一管体的后端均固设有连接头，两根第二管体的前端分别连接在两个连接头的后端，两根第二管体的后端均连接真空镀膜机的冷却水箱；连接头包括第一连接部和第二连接部。由于采用了上述技术方案，在真空镀膜机的真空腔的腔壁上拆卸蒸发源本体时更加方便；方便将蒸发源本体转移至操作室进行灰尘的清理和导电性的检测。
基本信息
专利标题 ：
一种PVD多弧真空镀膜机蒸发源
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021538701.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-28
授权号 ：
CN212713728U
授权日 ：
2021-03-16
发明人 ：
邓斌朱善元舒兴莲罗亚琼
申请人 ：
重庆特钛超膜工贸有限公司
申请人地址 ：
重庆市九龙坡区白市驿海龙工业园
代理机构 ：
重庆乐泰知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
袁茹坤
优先权 ：
CN202021538701.8
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2021-03-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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