一种真空镀膜用的镀膜材料蒸发装置
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摘要
本实用新型公开了一种真空镀膜用的镀膜材料蒸发装置，包括镀膜箱、固定连接镀膜箱的材料预热箱和材料预热箱下方的真空泵，所述镀膜箱上安装有：转台，所述转台与镀膜箱内腔顶壁轴转连接；转台底部开设有数个凹槽；固定机构，所述固定机构固定安装在凹槽内；承料皿，所述承料皿位于转台的正下方，承料皿外侧固定套有固定圆缸；若干个封闭门，若干个所述封闭门均滑动连接镀膜箱内腔靠近开口处，封闭门底部固定连接有驱动开合装置；所述镀膜箱顶部还固定连接有第一电机，所述第一电机的输出轴伸入镀膜箱内腔固定连接转台。本实用新型操作简便，节约人力，镀料加热均匀，大幅提高了镀料的蒸发效率，保证了镀膜的质量，实现镀膜物品的广泛性。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜用的镀膜材料蒸发装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122384754.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-09-30
授权号 ：
CN216688291U
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
李克伟李成委刘慧
申请人 ：
苏州鼎奕通材料科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴中区东方大道1388号双银国际金融城123幢302室
代理机构 ：
南京中高专利代理有限公司
代理人 ：
刘相宇
优先权 ：
CN202122384754.X
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-06-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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