蒸发镀膜装置
授权
摘要

本申请涉及真空镀膜技术领域,尤其涉及一种蒸发镀膜装置。一种蒸发镀膜装置,包括镀膜室、抽真空组件以及辅助抽真空件;辅助抽真空件通过第一管道与镀膜室连通,辅助抽真空件用于抽取镀膜室内的包括蒸汽的部分气体,抽真空组件通过第二管道与镀膜室连通,抽真空组件用于抽取镀膜室内水蒸汽。镀膜室内主要存在两部分的气体,其中一部分气体为水蒸汽,另一部分为氧气等气体,首先利用辅助抽真空件对镀膜室内的水蒸汽迅速捕集,然后再利用抽真空组件对镀膜室内的氧气等气体进行捕集;对镀膜室内的气体分别利用不同组件分别进行捕集,大大缩短了对镀膜室抽真空的时间,不仅降低了各个组件的耗电量,又提供了工作效率。

基本信息
专利标题 :
蒸发镀膜装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922153662.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-04
授权号 :
CN211497762U
授权日 :
2020-09-15
发明人 :
王君依君粱惠朋
申请人 :
沈阳爱科斯科技有限公司
申请人地址 :
辽宁省沈阳市沈北新区蒲河路83-42号
代理机构 :
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
毕翔宇
优先权 :
CN201922153662.3
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24  C23C14/56  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-09-15 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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